01
减薄工艺流程
◆ 制程产能:160K张/月（折算6.2*单粒约10KK pcs/M）
◆ 产线配置:12条生产线(10条G4.5减薄线、2条G5减薄线)
◆ 最大面板尺寸:1200mm*1300mm
◆ 减薄最小厚度:0.15+0.15mm、单片0.12mm
◆ 制程工艺:化学蚀刻(双面/单面)+物理抛光+ITO度膜
02
AG蚀刻生产工艺流程
蒙砂AG简介
AG的基本原理:
AG处理是通过对玻璃表面加工，使玻璃表面变得粗糙，光线照射在这种粗糙的表面上会发生漫反射，将入射光线分散到各个角度，从而使观看者不会产生刺眼和眩晕的感觉。（通过化学处理使镜面反射变为漫反射）
通过蒙砂+化抛来达到AG的目的
☆蒙砂
蒙砂药液均匀覆盖在玻璃表面，与玻璃成分SiO2发生化学反应，生成的盐类以结晶的形式析出并附着在玻璃表面，阻挡了后续的玻璃与蒙砂药液的反应。未被阻挡的地方继续与蒙砂药液反应，直至玻璃表面形成一层密制的结晶层。经过DI水洗后，玻璃表面的结晶层被洗掉，玻璃表面呈现凹凸不平的形貌。
☆化抛
化抛有水平化抛以及浸泡化抛两种方式。水平化抛是化抛液喷淋在玻璃表面，均匀的与玻璃反应;浸泡化抛是玻璃整个浸泡在化抛液中，通过鼓泡的方式让化抛液与玻璃充分接触，从而均匀的与玻璃反应。两种方式均是化抛液使玻璃表面尖锐的凸起被腐蚀，玻璃表面变得更平滑。
03
黄光CD纹生产工艺流程
CD纹的基本原理:
黄光工艺是通过一些感光材料对玻璃表面进行加工处理，再通过蚀刻等工艺使玻璃表面形成CD光盘一样纹路，给人视觉享受和立体感的一种高档的表面处理工艺。
经过刮胶后通过曝光＋显影来达到CD纹的效果
☆刮胶
利用刮刀将薄薄的一层光刻胶均匀覆盖在清洁干燥的玻璃表面，固化后为后续曝光提供一层介质，便于在上面形成图案。
☆曝光
铬板的阻挡，使强光照射在裸露在外的光刻胶上，此种光刻胶由于在强光照射后，很容易被后段吸收处理掉。
☆显影
显影为碱性液体，感光区的光刻胶在一定温度的碱性液体中，可以快速溶解。二而来被强光照射下的光刻胶就保留下来。从而形成我们所需要的图案。这层图案再经过后续酸洗后会形成CD光盘一样的纹路。也就是我们所需要的CD纹产品。
黄光车间涂胶机
黄光车间曝光机
黄光车间清洗线
黄光车间显影线
04
激光切割工艺流程图
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